专利名称:多孔质二氧化硅颗粒的制造方法、防反射膜用树脂
组合物、具有防反射膜的物品以及防反射薄膜
专利类型:发明专利
发明人:所宽树,山科洋三,高野圣史,下垣知代,田渊穰,出口朋
枝
申请号:CN2012800061.0申请日:20120119公开号:CN103328382A公开日:20130925
摘要:本发明的目的在于提供一种粒径小、而且在制造中相对于反应溶液的容量的产量高的多孔质二氧化硅颗粒的制造方法,为了达成该目的,提供了一种在表面具有细孔的多孔质二氧化硅颗粒的制造方法,其特征在于,其包括如下工序:在含有氨、醇以及水的混合溶液(B液)中加入含有四烷氧基硅烷、烷基胺以及醇的混合溶液(A液),进行四烷氧基硅烷的水解和缩合反应,从而得到二氧化硅颗粒的工序;和从该二氧化硅颗粒去除烷基胺的工序。
申请人:DIC株式会社
地址:日本东京都
国籍:JP
代理机构:北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
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