专利名称:一种氧化镁烧结体靶材的微量硅元素均匀掺杂方法专利类型:发明专利发明人:曾卫军
申请号:CN201510931180.X申请日:20151215公开号:CN105503159A公开日:20160420
摘要:本发明公开了一种氧化镁烧结体靶材的微量硅元素均匀掺杂方法。首先将硅源溶解制备成前驱液:当所用硅源为可溶于水的如硅酸钠、硅酸、硅酸钾等,直接用去离子水溶解,再进行定容,形成前驱液;当所用硅源为可溶于有机溶剂的硅源,如正硅酸乙脂、三甲基硅醇、四乙酰氧基硅烷等,先溶解于有机溶剂,再以乙醇-水进行定容,形成前驱液。前驱液再与一定重量比的氧化镁原料在球磨机中混合,制备成浆料,从而完成硅元素的均匀掺杂。此浆料再进行喷雾造粒、压制成型、烧结等工序,制备成微量硅元素掺杂的氧化镁烧结体靶材。本发明掺杂时间短,均匀性高,适合工业化应用。
申请人:营口镁质材料研究院有限公司
地址:115000 辽宁省营口市大石桥有色金属(化工)园区有色路28号
国籍:CN
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