专利名称:浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件
制造方法
专利类型:发明专利
发明人:M·瑞鹏,N·R·凯姆波,J·P·M·B·沃麦乌伦,D·J·M·迪莱
克斯,D·M·H·飞利浦斯,A·J·范普腾
申请号:CN200910141992.9申请日:20090508公开号:CN101576718A公开日:20091111
摘要:本发明公开一种浸没式光刻设备、干燥装置、浸没量测设备和器件制造方法。在所述浸没式光刻设备中,液体去除装置布置成:例如在曝光期间,通过沿一条线布置且与该线形成角度的多个细长的狭槽从衬底去除液体。液体去除装置用作浸没罩(hood)中的弯液面钉扎装置,或用在干燥装置中以从衬底上去除液滴。
申请人:ASML荷兰有限公司
地址:荷兰维德霍温
国籍:NL
代理机构:中科专利商标代理有限责任公司
代理人:王新华
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