等离子体装置及其工作方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：等离子体装置及其工作方法专利类型：发明专利

发明人：徐翼丰,曾德强,盖晨光,刘家桦,叶日铨申请号：CN201810834842.5申请日：20180726公开号：CN109037020A公开日：20181218

摘要：一种等离子体装置及其工作方法，等离子体装置包括：腔室；耦合于腔室的等离子体发生单元，用于产生等离子体；位于所述腔室内的基座，基座固定于腔室底部，且所述基座用于承载待处理基底；耦合于腔室的等离子体偏置单元，用于驱动等离子体在腔室内向基座表面运动；第一电极，固设于腔室的部分内侧壁表面，且所述第一电极顶部表面高于基底的顶部表面，且第一电极被施加直流正电压。利用所述等离子体装置有利于降低等离子体沿平行于基座表面方向上对待处理基底处理程度的差异。

申请人：德淮半导体有限公司

地址：223302 江苏省淮安市淮阴区长江东路599号

国籍：CN

代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司

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